
當前位置:首頁 > 技術(shù)文章
12-8
磁控濺射鍍膜設(shè)備是一種廣泛應(yīng)用于電子、光電、材料科學等領(lǐng)域的高科技設(shè)備,常用于薄膜的沉積。磁控濺射技術(shù)具有良好的膜層質(zhì)量、均勻性和附著力,因此被廣泛用于半導體、顯示器、太陽能電池等產(chǎn)品的生產(chǎn)中。然而,隨著使用頻率的增加和老化,也會出現(xiàn)各種故障,影響生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。因此,對磁控濺射鍍膜設(shè)備故障診斷與維護是確保設(shè)備正常運行和延長使用壽命的關(guān)鍵。一、故障診斷1、故障現(xiàn)象排查:設(shè)備出現(xiàn)故障時,首先要觀察設(shè)備的表現(xiàn),例如是否有報警信號,是否有異常聲音或氣味等。通過初步的排查,確定故...
12-2
摘要電解雙噴減薄儀通過電化學方法從兩側(cè)同時減薄金屬樣品,直至中心穿孔,獲得適用于TEM觀察的薄區(qū)。其過程敏感且易受多種因素干擾,導致樣品制備失敗。本文旨在提供一套系統(tǒng)性的方法,首先深入剖析電解液選擇、電流參數(shù)、噴射條件、溫度與環(huán)境等核心工作條件的優(yōu)化策略,建立參數(shù)與樣品質(zhì)量之間的關(guān)聯(lián)。隨后,文章構(gòu)建了一個從現(xiàn)象到根源的邏輯診斷樹,對常見的各類故障(如無法穿孔、孔洞形狀不規(guī)則、污染、過薄等)進行逐一拆解與分析。掌握本文內(nèi)容,將極大提升操作者解決復雜問題的能力,實現(xiàn)對TEM樣品制...
11-26
臺式勻膠機廣泛應(yīng)用于實驗室、生產(chǎn)線以及一些特殊領(lǐng)域,用于均勻涂布膠水、油漆、涂料、薄膜材料等。其主要原理是通過高速旋轉(zhuǎn)的涂布輥或刀具將膠水均勻地涂覆到基材表面。為了保證其穩(wěn)定性和涂布效果,正確的使用技巧與定期維護顯得尤為重要。以下是臺式勻膠機的使用技巧與維護指南。一、使用技巧1、選擇合適的膠水:在使用之前,首先要確保所使用的膠水或涂料的粘度適合的工作要求。如果膠水過稠,可能會導致涂布不均勻或堵塞機器;如果膠水過稀,則可能影響涂層的質(zhì)量和厚度。因此,選擇適合的膠水或調(diào)整膠水粘度...
11-21
實驗室等離子清洗機的清洗效果直接影響后續(xù)實驗(如材料粘接、鍍膜、細胞培養(yǎng)、微電子封裝等)的成功率,其核心優(yōu)化邏輯是匹配物料特性與等離子參數(shù)、控制環(huán)境干擾、規(guī)范操作流程。以下從6個關(guān)鍵維度,結(jié)合實際應(yīng)用場景給出具體優(yōu)化方案:一、精準匹配等離子氣體類型不同氣體產(chǎn)生的等離子體活性粒子(自由基、離子)特性不同,需根據(jù)清洗目標(除油、除膠、活化、刻蝕)和物料材質(zhì)選擇:通用型清洗(除油、除雜質(zhì)):優(yōu)先選氬氣(Ar)。氬氣等離子體具有高動能,通過物理轟擊作用剝離物料表面的有機污染物、粉塵,...
11-17
實驗室狹縫涂膜機廣泛應(yīng)用于實驗室和工業(yè)生產(chǎn)中,用于涂布薄膜材料,特別是在半導體、光電子、表面處理等領(lǐng)域具有重要作用。隨著需求的多樣化和技術(shù)的進步,其性能優(yōu)化與改進成為提升生產(chǎn)效率、保證產(chǎn)品質(zhì)量、降低成本的關(guān)鍵。以下是對實驗室狹縫涂膜機性能優(yōu)化與改進的幾個方面探討。一、涂布質(zhì)量的提高涂布質(zhì)量是衡量性能的核心指標之一。要實現(xiàn)涂布均勻、薄膜質(zhì)量高,可以從以下幾個方面進行優(yōu)化:1、涂布頭設(shè)計的改進:涂布頭的設(shè)計直接影響涂布的均勻性和穩(wěn)定性。通過優(yōu)化狹縫的形狀和大小,改進涂布頭的壓差控...
11-10
一、什么是狹縫涂布機?狹縫涂布機是一種高精度、連續(xù)化、大面積薄膜涂布設(shè)備,主要用于在基材(如紙張、塑料薄膜、金屬箔、玻璃等)表面均勻涂覆一層或多層液體材料(如膠黏劑、涂料、漿料、電池材料、光學膜層等),形成厚度精準、表面平整的涂層或功能性薄膜。它是精密涂布工藝中的核心設(shè)備之一,廣泛應(yīng)用于鋰電池制造、平板顯示(OLED、LCD)、光伏、半導體、光學膜、裝飾材料、醫(yī)療膠帶等領(lǐng)域。二、狹縫涂布機的工作原理(技術(shù)與涂布過程簡析)?核心原理:通過精密控制的狹縫式模頭,將漿料均勻擠出并涂...
11-5
實驗室閃蒸成膜儀是一種基于快速蒸發(fā)原理的薄膜制備設(shè)備,常用于在真空環(huán)境下將有機或無機材料(如金屬、氧化物前驅(qū)體、有機小分子、聚合物等)通過快速加熱蒸發(fā),并沉積在基片表面形成薄膜。這類設(shè)備在功能薄膜制備、有機電子(如OLED、OFET)、光學薄膜、光電子器件、傳感器、催化劑載體薄膜等領(lǐng)域具有廣泛應(yīng)用。一、閃蒸成膜的基本原理閃蒸成膜屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種特殊形式,其核心是通過瞬間加熱(閃蒸)使材料迅速蒸發(fā)為氣相,隨后在基片表面冷凝沉積形成薄膜。與傳統(tǒng)的電阻蒸發(fā)、電子...
歡迎您關(guān)注我們的微信公眾號了解更多信息
掃一掃